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PVD是物理氣相沉積，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

摩擦學(xué)是一門研究相對運動表面間的摩擦、磨損和潤滑以及相關(guān)問題的學(xué)科，是節(jié)能、減排、降耗的重要手段，對當(dāng)今環(huán)境、能源及經(jīng)濟等領(lǐng)域都有著重大影響。DLC類金剛石涂層就具有低摩擦系數(shù)、高耐磨的優(yōu)異性能，可以實現(xiàn)超低摩擦行為，是潛力很大的固體潤滑材料，在切削刀具、機械密封以及生物醫(yī)學(xué)等行業(yè)有著都有廣泛應(yīng)用。DLC涂層超低摩擦產(chǎn)生原因有很多，根本在于滑動界面之間以及滑動界面與周圍環(huán)境之間的化學(xué)、物理和機械相互作用。為了確保DLC涂層的低摩擦系數(shù)，要削弱相關(guān)因素的影響。

手機鋼化膜產(chǎn)品主要起到保護手機屏幕的作用。該產(chǎn)品的技術(shù)基礎(chǔ)為DLC鍍膜技術(shù)的應(yīng)用，即在普通玻璃表面鍍上一層類金剛石薄膜，使之兼具金剛石與石墨的雙重優(yōu)點，具有高硬度和低摩擦性的特點。手機鋼化膜鍍DLC涂層的性能兩大優(yōu)勢

DLC涂層原理DLC涂層是一種純碳膜， 其有的非晶特性能夠為基體提供良好的物理、化學(xué)性能,并使基體在環(huán)境下具有更加優(yōu)越的性能。DLC涂層的形成可以通過離子?xùn)|沉積、物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)等不同工藝進行。由于不同的制備工藝，DLC涂層可以分為硬質(zhì)DLC(a-C:H)和氫化硬質(zhì)DLC(a-C:H)，其中硬質(zhì)DLC為非晶質(zhì)純碳膜，其表面硬度高達20-90GPa，氫化硬質(zhì)DLC則在純碳基礎(chǔ)上通過加入氫元素擴大了涂層的應(yīng)用范圍，提高了耐腐蝕性和生物相容性。

類金剛石碳(DLC)膜素以優(yōu)秀的摩擦學(xué)性能而收到歡迎，且此類材料通常具有很高的耐磨性和很低的摩擦系數(shù)。DLC涂層的結(jié)構(gòu)與組分，以及涂覆過程所使用的工藝將決定這些涂層的屬性。由于這些可實現(xiàn)的屬性所覆蓋的范圍其廣，DLC涂層在很多方面均大有用武之地。

DLC薄膜通常是由sp2（石墨）和sp3（金剛石）相的混合物組成。DLC膜對鋼的摩擦系數(shù)一般在0.05-0.10之間，而膜硬度和sp3含量可以根據(jù)具體應(yīng)用而定制。含金屬和氫的DLC(Me-DLC或a-C:H:Me)在1800-2800HV范圍內(nèi)，而四面體非晶碳(ta-C)在4000-8000HV范圍內(nèi)。

但其耐磨性能不能滿足壽命要求，如何提高鈦合金花鍵表面的耐磨性？引用了主要有碳基涂層(如類金剛石DLC)，DLC涂層采用磁控濺射與PECVD相結(jié)合的方式，沉積DLC2(a-C:H）涂層和DLC（ta-c）涂層。DLC的硬度在2500HV，摩擦系數(shù)0.04，DLC涂層的硬度高達6000HV，摩擦系數(shù)0.1，利用DLC真空鍍膜技術(shù)在花鍵軸表面沉積硬質(zhì)耐磨涂層是解決鈦合金花鍵表面耐磨性能不足的有效途徑之一。

目前涂層種類非常豐富，由于類金剛石碳DLC具有與金剛石相似的高硬度和優(yōu)越的機械性能，同時也具備低摩擦系數(shù)和良好的化學(xué)惰性。DLC鍍膜應(yīng)用涵蓋了刀具和模具的表面硬化處理，集成電路的絕緣層與保護層，醫(yī)療器械的生物相容性涂層，以及發(fā)動機部件的減摩處理等，因為應(yīng)用非常廣泛，得到了市場熱捧。